Eğer p-tipi ve n-tipi yarıiletkenler üretmek istiyorsan, fosfor ve boru silikona eklemek için iki ana yöntem var:
1. İyon İmplantasyonu: Bu yöntemde, fosfor veya bor atomları hızlandırılıp, silikon yüzeyine vuruluyor. Atomlar silikon kristallerine yerleşiyor ve bu şekilde silikonun elektriksel özellikleri değişiyor. Sonrasında, silikon ısıtılarak bu atomlar yerleşiyor ve kristal yapı düzenleniyor.
2. Difüzyon Yöntemi: Silikonun üst yüzeyine fosfor veya bor buharı verilir ve silikon ısıtılır. Isı sayesinde, bu maddeler silikon içine yayılır ve yerleşir. Bu işlem daha basit, ama biraz daha az hassas bir yöntemdir.
Hangisini tercih edersin, daha hassas ve kontrollü bir işlem için ion implantasyonu, daha basit ve ekonomik bir işlem için ise difüzyon yöntemi uygundur.
